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有机溶剂回收设备在半导体行业有以下重要应用：清洗环节光刻胶清洗：在光刻工艺后，需要使用有机溶剂如 N - 甲基吡咯烷酮（NMP）、丙二醇甲醚乙酸酯（PGMEA）等去除晶圆表面残留的光刻胶。有机溶剂回收设备可对使用后的清洗液进行回收，通过蒸馏、过滤、吸附等技术，去除其中的光刻胶及其他杂质，使有机溶剂得到净化后重新用于光刻胶清洗工序，降低清洗成本，减少有机溶剂的浪费。晶圆表面清洗：半导体制造中，...